石墨坩埚通常用于生产高纯度金属和半导体材料，并且必须使用具有高碳含量的高纯度石墨来实现金属和半导体材料的一定纯度并减少杂质的量。低杂质。
生产高纯度石墨时，必须严格控制原料选择中的杂质含量，选择灰分低的原料，防止高纯度石墨加工中杂质的增加。在高温石墨化下，许多杂质元素的氧化物继续分解和蒸发，温度越高，杂质越多，产生的石墨就越高。在一般石墨化产品的生产中，芯部的最高温度约为2300，残留杂质含量约为0.1-0.3。当炉芯温度升高到2500-3000C时，残留杂质含量将大大降低。在生产高纯度石墨产品时，通常使用低灰分石油焦作为电阻材料和绝缘材料。
即使将石墨化温度简单地提高到2800C的高温，仍然很难去除一些杂质。一些公司使用诸如减少核芯来提取高纯度石墨，提高炉温以增加电流密度，降低石墨炉的输出和增加功耗等方法，因此当石墨炉的温度达到1800时净化气体（例如氯气，氟利昂等）中的石墨中会产生更多的顽固杂质，这些杂质会产生易于分解和蒸发的氯化物和氟化物。这是为了防止汽化的杂质反应。它沿炉子的方向扩散，并通入少量氮，以从石墨孔中排出剩余的精制气体，从而有利于炉子的运行。